中国报告大厅网的最新市场调研揭示了半导体设备行业的品牌影响力。2025年,半导体设备市场迎来了新的变化,各大品牌在产品质量、技术创新和市场占有率等方面展开了激烈的竞争。
在2025年半导体设备品牌排行榜中,各大品牌通过不断的努力和创新,提升了自身的品牌价值和市场竞争力。这些品牌在半导体设备的生产和供应上占据了重要地位,不仅在国内市场有着广泛的影响力,也在国际市场上逐渐崭露头角。2025年半导体设备品牌排行榜的详细排名为ASML阿斯麦、AMAT应用材料、Lam Research、Tokyo Electron、KLA科磊、ASMI、上海微电子Smee、北方华创、中微AMEC、电科装备CETC。
表1:2025年半导体设备十大品牌排行榜
ASML创立于1984年,全球芯片光刻设备市场领导者,是全球最大的半导体光刻设备制造商之一,ASML于2000年推出TWINSCAN光刻机,2010年成功研发首台EUV光刻机,是当前唯一可以生产EUV光刻机的公司。ASML在全球10余个国家设有60余个办公...
AMAT成立于1967年,以薄膜沉积设备起家,是全球极具影响力的半导体和显示设备制造商之一,目前产品与服务已覆盖原子层沉积、物理气相沉积、化学气相沉积、刻蚀、快速热处理、离子注入、测量与检测、清洗等生产步骤,AMAT于1984年进入国内,是第一家进入中国的...
Lam Research创立于1980年美国,是全球领先的晶圆制造设备、技术和服务提供商,主营刻蚀设备、薄膜沉积设备和清洗设备,居于刻蚀设备行业领导地位,在纳米级应用支持,化学,等离子和流体技术等领域建立了强大的竞争力,Lam Research于1994年...
TOKYO ELECTRON成立于1963年日本,是全球知名半导体制造设备、液晶显示器制造设备提供商。主要产品涵盖涂布/显像设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、CVD、湿法清洗设备及测试设备,已在日本、美国、欧洲、韩国、中国等地都建立了自己的网点,在全球多...
KLA科磊由KLA和Tencor两家公司于1997年合并而成,是全球领先的半导体检测设备供应商,半导体前道量测设备领域影响力企业,产品贯穿前道工艺过程控制全流程,为半导体制造及相关行业提供良率管理和制程控制解决方案,1999年在国内设立第一个分公司,目前已...
ASM International创立于1968年荷兰,以晶圆加工设备起家,全球知名半导体设备提供商,ALD设备居于行业前列,是高端薄膜沉积设备行业全球领导者,主要提供ALD、epi、PECVD、炉管等产品,在北美、欧洲、亚洲等地设有技术研发与制造中心,业...
SMEE成立于2002年,是国产半导体光刻设备领域佼佼者,主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务,广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
北方华创成立于2001年,深交所上市公司(股票代码:002371),是国内领先的半导体装备制造与服务商,旗下北方华创微电子主要提供刻蚀机、PVD、ALD、CVD、氧化/扩散炉、清洗机、气体质量流量计等高端半导体工艺装备及核心零部件,为半导体、新能源、新材料...
中微公司始于2004 年,2019 年于上交所上市(股票代码:688012),是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,为集成电路和泛半导体行业提供高端设备和服务,国内刻蚀设备行业佼佼者,主要产品涵盖刻蚀设备、MOCVD 设备、薄膜设备,服务遍布...
电科装备成立于2013年,隶属中国电子科技集团,具备集成电路局部成套和系统集成能力以及光伏太阳能产业链整线交钥匙能力,已实现国产离子注入机28纳米工艺制程全覆盖,形成了以离子注入机、平坦化装备(CMP)等为代表的微电子工艺设备研究开发与生产制造体系,涵盖材...
在任何领域的企业成功,专利信息和起草标准的重要性不容忽视。专利信息是企业创新的重要产物,它可以保护企业权益,提升企业竞争力;起草标准则是企业产品制造和服务领域的质量保障,有助于规范市场行为,提高行业基础标准。
序号 | 专利号/专利申请号 | 专利名称 |
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1 | ZL201310747393.8 | 一种调焦调平装置 |
2 | ZL201410857409.5 | 一种硅片边缘保护装置 |
3 | ZL201110241791.3 | 一种步进光刻设备及光刻曝光方法 |
标准号 | 标准名称 | 发布日期 | 实施日期 |
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GB/T 40577-2021 | 集成电路制造设备术语 | 2021-10-11 | 2022-05-01 |
序号 | 专利号/专利申请号 | 专利名称 |
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1 | ZL201210378282.X | 等离子体处理装置及调节基片边缘区域制程速率的方法 |
标准号 | 标准名称 | 发布日期 | 实施日期 |
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GB/T 40577-2021 | 集成电路制造设备术语 | 2021-10-11 | 2022-05-01 |