光刻机分为无掩模光刻机和有掩模光刻机，是集成电路产业皇冠上的明珠，全球范围内最先进的沉浸式光刻机也只有ASML、尼康和佳能三家能够生产，以下是光刻机行业现状分析。

　　光刻机被誉为人类20世纪的发明奇迹之一，是集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。光刻机行业分析指出，光刻机行业格局为三分天下，主要由是荷兰ASML、日本Nikon及日本canon主宰。

　　光刻机行业现状分析指出，2014-2020年ASML企业光刻机销量不断上升，2019年ASML企业光刻机销量为224台，2020年销量较2019年增加5台，2020年ASML企业光刻机销量为229台。

　　2020年ASML企业ArFi机型光刻机销量为82台，KrF机型光刻机销量为65台，i-line光刻机销量为34台，AriFdry机型光刻机销量为22台，EUV光刻机销量为26台。

　　ASML在技术更先进的EUV、ArFi、ArF机型市场占有率不断提升，且远大于Canon和Nikon。2019年ASML上述三种机型出货量总计为101台，市场份额占比为78.29%，到2020年ASML出货量增长到120台，市场份额约90%。Canon和Nikon在EUV、ArFi、ArF机型销售量远低于ASML，二者产品主要集中价值量更低的后道光刻机以及面板光刻机领域。

　　IC前道光刻机技术最为复杂，光刻工艺是IC制造的核心环节也是占用时间比最大的步骤，光刻机是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备。光刻设备约占晶圆生产线设备成本27%，光刻工艺占芯片制造时间40%-50%。

　　目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经占据了高达80%的市场份额，垄断了高端光刻机市场-最先进的EUV光刻机售价曾高达1亿美元一台，且全球仅仅ASML能够生产。Intel、台积电、三星都是它的股东，重金供养ASML，并且有技术人员驻厂，Intel、三星的14nm光刻机都是买自ASML，格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自ASML。

　　光刻机行业现状分析指出，中芯国际(SMIC)订购的是最新型的使用EUV(极紫外线)技术的芯片制造机器光刻机，价值1.2亿欧元，与其去年净利润1.264亿美元大致相当。

　　长江存储装入193nm浸润式光刻机，售价7200万美元(约合人民币4.6亿元)，可用于14-20nm工艺。

　　华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司装入193nm双级沉浸式光刻机，用于10nm级(14~20nm)晶圆生产。

　　如今，我国对于光刻机行业较为重视。其主要表现在对于整个IC产业链企业的政策优待以及对于半导体设备行业的相关规划与推动。其主要表现在资金方面的补助和人才方面的培养，以及进出口，投融资方面的政策扶持，以上便是光刻机行业现状分析所有内容了。