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在2025年9月4日于江苏无锡召开的第十三届半导体设备与核心部件及材料展(CSEAC 2025)论坛上,国内半导体装备领域的最新进展引发关注。数据显示,我国集成电路专用设备产业正以强劲势头推进技术突破与产业链协同,过去一年规模以上企业销售收入达1178.71亿元,同比增长32.9%。此次会议不仅展现了国产专用设备从“单点突破”向“体系化供给”的跨越,更揭示了后摩尔时代下全球竞争格局的深层变革。
国内半导体装备企业正通过关键技术攻关实现跨越式增长。以12英寸硅刻蚀机量产、5纳米刻蚀技术国际认证等标志性成果为代表,我国在刻蚀、薄膜沉积、化学机械抛光(CMP)等主流工艺设备领域已形成体系化供给能力。盛美半导体单片清洗设备的海外装机突破与中电科装备离子注入机全系列上线,进一步印证了国产专用设备在全球市场的竞争力提升。
无锡高新区等地的实践表明,专用设备产业链联动发展已形成可复制的“区域标杆”。当地企业通过联合攻关射频电源、精密石英等关键零部件的国产化,推动集成电路前道工艺、封装测试等领域实现规模化量产。这种以龙头企业牵头组建创新联合体、设备商与晶圆厂共建“首台套验证平台”的模式,加速了专用设备与材料、工艺的协同创新进程,显著提升供应链韧性。
随着先进制程向3纳米及更小节点推进,以及第三代半导体材料量产需求增长,专用设备企业面临更高要求。当前国产设备在先进制程的渗透率仍需突破,亟待通过“政策-资本-市场”协同机制深化创新生态。同时,全球化供应链重构背景下,国内零部件企业加速融入国际分工体系,为专用设备产业的全球竞争力提升注入新动能。
论坛强调,下一阶段需进一步打破“单兵作战”局限,通过政策引导与资本赋能,推动专用设备研发、制造、应用的全生命周期联动。从长三角地区的产业集群经验可见,强化区域产业布局规划、搭建技术验证平台、促进上下游数据共享,将成为实现国产专用设备自主可控的关键路径。
展望
2025年是我国半导体装备产业迈向高质量发展的关键节点。在市场规模突破千亿级的基础上,通过深化产业链协同、攻克核心技术瓶颈、构建全球化供应链体系,国内专用设备企业正逐步从跟跑者转变为并跑者,并在部分领域实现领跑。未来,在政策引导与市场驱动的双重作用下,中国半导体装备产业有望在全球竞争中持续提升话语权,为集成电路产业的长期发展提供坚实支撑。